記錄上海世博場館(之二) (/)

科峰 | | 2010-07-24 | 整組瀏覽

記錄上海世博場館(之二)

【記錄上海世博場館(之二)】 第 1 幅

中國館

曝光: Auto exposure 光圈: F13 快門: 1/400 sec ISO: 320 曝光補償: 1/3 EV 相機: 尼康 D700(單機) 查看大圖
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作品簡介
單位組織,去了趟上海世博會,帶著相機本想借機拍點“滿意作品”,卻發現自己手藝實在太差,片子讓我沒有感覺,在這裡只能稱其為到此一游的“記錄”了。
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