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中國公司引進ASML光刻機:將研發28nm光刻膠

        國內半導體材料公司晶瑞股份發表公告,宣稱購得 ASML 公司光刻機一台,將用於高端光刻膠項目。

        晶瑞表示,自公司開展設備采購活動以來,受到投資者廣泛密切關注。

        經公司多方協商、積極運作,順利購得 ASML XT1900 Gi 型光刻機一台 。該設備於 20211月19日運抵蘇州並成功搬入公司高端光刻膠研發實驗室。

        下一步,公司將積極組織相關資源,儘快完成設備的裝設調試工作。

        從晶瑞公司的資訊來看,公司采購的光刻機設備為 ASML XT 1900 Gi ArF 浸入式光刻機, 可用於研發最高解析度達 28nm 的高端光刻膠。

        此外, 28nm 級別的光刻機在 ASML 公司中並不算多先進的型號了,官網上列出的沉浸式光刻機最舊的型號也是 XT1965CI 了,可用於 20nm 以下的工藝。

        不過晶瑞公司購買的這台光刻機花了 1102.5 萬美元,約合人民幣 7129 萬元,價值不菲。

  晶瑞公司表示,公司量產光刻膠近30年,組建了國內領先的光刻膠研發團隊,具有豐富的光刻膠研發和生產經驗,先後承擔了國家“85”攻關、“863”重大專項、科技部創新基金等科技項目、承擔了國家02重大專項“i線光刻膠產品開發及產業化”項目,並順利透過國家02重大專項驗收。

  公司完成中試的 KrF光刻膠已進入用戶測試階段,達到0.15μm的解析度。

  本次購買的 ASML光刻機設備系公司整合電路製造用高端光刻膠研發項目的必要實驗設備,旨在研發出更高端的 ArF 光刻膠,若研發工作進展順利,將有助於公司將光刻膠產品序列實現到 ArF 光刻膠的跨越,並最終實現應用於12英寸晶片製造的戰略佈局。

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  【來源:快科技】【作者:憲瑞】

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